仪器介绍

基本信息

  • 生产厂商 沈阳科晶自动化设备有限公司
  • 资产编号 S2008249
  • 资产负责人 孙毅飞
  • 购置日期2020-07-31
  • 仪器价格19.50 万元
  • 仪器产地沈阳
  • 仪器供应商
  • 购买经办人孙毅飞
  • 主要配件
  • 主要参数

仪器介绍

双靶磁控溅射仪是一款高真空镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。

应用领域

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管理规则

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实验规则

尚未填写

培训指南

尚未填写